Selección de analizadores compatibles con UV y H2O2 para sistemas de destrucción de micropolutantes: Una guía de abastecimiento de Shanghai ChiMay
Conclusiones Clave Los procesos de oxidación avanzada UV/H2O2 están ganando participación como una alternativa competitiva en costos al ozono para destruir fármacos traza, precursores de PFAS y micropoluentes industriales. Los skids UV/H2O2 crean un entorno químicamente y ópticamente hostil para los analizadores: flujo intenso de UV-C, residuos de peróxido elevados y potenciales de oxidación-reducción que…
